纳米集成电路大生产中新工艺技术发展趋势

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纳米集成电路大生产中新工艺技术发展趋势 作者：肖利等

来源：《消费电子·理论版》2013年第10期

摘 要：随着科学技术的不断发展，当前微电子事业正在不断进步，尤其是近年微电子科学在集成电路上的应用，使得传统的集成电路正在不断的进行革新，但是依靠着科学技术的发展逐渐构建起新的集成电路技艺，但是微电子事业的整体发展步伐却逐渐趋于缓慢。伴随着高分子材料的不断发展，各种新器件在集成电路中逐渐推出和应用，所以本文主要从纳米技术在集成电路大生产中的使用进行研究，结合当前的技术发展趋势探讨纳米技术的主要发展趋势和发展现状。

关键词：纳米；集成电路；新工艺；发展趋势

中图分类号：TN47 文献标识码：A 文章编号：1674-7712 （2013） 20-0000-01

自从摩尔提出了集成电路的发展预测，他认为单位面积上的晶体管在24个月都将在数量上翻番，经过微纳电子技术的不断发展，使得摩尔的预测逐渐实现，而且随着微纳电子产业的发展，使得摩尔的预测正在受到非常强大的挑战，因为随着新的科学技术的不断发展，新材料和新结构的不断创新促使当前的发展逐渐显示出其有效性，由于产业的不断发展和思索，使得人们逐渐从晶体管的使用上认识到其体积还能缩小，所以根据当前的晶体管理论，当特征距离小到10纳米的时候会不可避免的发生电子漂移，此时会无法控制电子的进出，从而导致了晶体管的实效。随着新材料和新工艺的崛起使得在设计和制造出集成电路的时候，会逐渐的淡化摩尔定律，那么则会对市场的冲击带来深远的影响，尤其是在互联网时代，纳米材料的使用可以更加有效的满足目前现状的要求，同时还能够成为具有高度关注的全球集成电路产业。

一、纳米技术在集成电路大生产工艺中的现状

随着当前的经济的不断发展，纳米技术在运用上变得越来越广泛，而且其功能的优越性也使得其应用更加的符合当前的发展现状。当前所使用的摩尔定律的不断延伸，基本上是依赖于新材料和新工艺进行突破，同时在发展的过程中如果不能够找到合适的替代品，那么摩尔定律则会实效，因此可以从新材料和新工艺的发展现状来检验出摩尔定律是否得到有效的延伸。目前所采用的应硅工艺、小型沟道材料技术、小尺寸工艺、高K 金属栅工艺、超低K 工艺、450mm 硅片以及光刻技术等均在被大量的使用。虽然纳米技术在当前的工艺中使用非常广泛，但是却仍然存在着很多的问题，因此在采用纳米技术的时候要解决相应的纳米

技艺所面临的难题。另外纳米技术在存储器中的应用也非常普遍，无论是相变阻器还是磁变阻器，其高速的运转造成了在成本的需求上需要更多，运用纳米技术可以在芯片中更好的运用。采用纳米技术可以使得所制出芯片存储器更加小，可以使得更加小的芯片拥有更大的驱动能力，从体积的角度不断缩小，而从功能的角度则是不断的扩大。